앞으로 半導體 等 國家核心技術 流出犯에 對한 處罰을 最高 懲役 18年으로 强化하라는 大法院 勸告가 나왔다. 初犯이어도 實刑 宣告를 勸告하고, 流出이 未遂에 그쳤어도 빼돌린 技術을 完全히 返還해 廢棄하지 않으면 兄을 깎아주지 않기로 했다. 大法院의 量刑 基準이 法定 最高刑에 비해 턱없이 낮아 ‘솜방망이 處罰’이라는 論難이 일자 量刑委員會가 勸告 刑量을 大幅 上向한 것. 19日 大法院 量刑委員會(委員長 李祥源)는 前날 全體會議를 열고 ‘知識財産·技術侵害犯罪 量刑 基準 修正案’을 議決했다고 밝혔다. 量刑委는 別途 量刑 基準이 없었던 ‘國家核心技術 等 國外 侵害’ 條項을 新設해 最大 懲役 18年刑까지 宣告하도록 勸告했다. 또한 旣存엔 營業祕密 侵害 行爲와 같은 類型으로 묶여 最高 刑量이 懲役 9年에 그쳤던 産業技術 海外 流出 犯罪에 對해서도 懲役 15年刑까지 處할 수 있도록 量刑 基準을 고쳤다. 그間 半導體 等 國內 企業의 核心 技術을 나라 밖으로 빼돌리는 犯罪가 끊이지 않은 主要 原因 中 하나로 量刑 基準이 낮다는 點이 指摘돼 왔다. 2019年 産業技術保護法 改正으로 技術流出 犯罪 刑量이 늘었지만 정작 法院의 量刑 基準은 그대로라 裁判에서 執行猶豫를 宣告받는 事例가 續出한 것. 하지만 이番 量刑委의 決定으로 法院이 流出犯에게 重刑을 宣告할 수 있는 가이드라인이 마련됐다는 評價가 나온다. 量刑委는 國家核心技術과 産業技術을 빼돌린 境遇 初犯이라도 情狀을 參酌하지 않도록 하고 執行猶豫를 制限하는 規定도 新設했다. 또한 流出 對象이 複製가 쉬운 디지털 設計圖 等인 點을 考慮해 流出 試圖가 失敗했더라도 被害물을 되돌려 받아 完全히 廢棄된 境遇에만 刑을 줄이는 要素로 삼기로 했다. 流出된 技術의 金錢 價値를 客觀的으로 算定하기 어려운 特性을 考慮해, 加重 處罰 對象에 ‘相當한 金額의 硏究開發費가 投入된 特許權, 營業祕密, 技術 等을 侵害한 境遇’도 包含하도록 했다. ‘祕密 維持에 특별한 義務가 있는 者’의 範圍에 去來處와 派遣職員 等을 明確히 包含해 技術 流出 時 加重 處罰하도록 했다. 이番 改正案은 公聽會 等을 거쳐 3月 25日 確定될 豫定이다.핵심기술 流出 初犯度 實刑… 去來處 職員도 加重處罰 對象에 [技術流出 量刑基準 上向]大法, 處罰强化 量刑基準案 議決半導體-디스플레이 等 技術 流出땐, 前科 없다는 理由로 執猶 宣告 못해大法 “嚴正한 量刑, 國民 共感帶 反映”… 産業界 “技術安保 裝置 마련돼” 歡迎 “技術侵害(海外 技術 流出) 犯罪에 對한 嚴正한 量刑을 바라는 國民的 共感帶를 反映했다.” 大法院 量刑委員會(委員長 李祥源)는 19日 半導體 等 國家核心技術 流出犯에 對한 處罰을 强化하는 새 量刑基準을 發表하면서 이같이 밝혔다. 超競爭 時代에 우리 企業의 核心技術이 中國 等 海外로 流出돼 國家 競爭力이 毁損되는 事例가 頻繁하지만 法的 土臺가 마련되지 않아 處罰이 微弱하다는 批判을 量刑委가 全面 受容한 것이다.● 初犯度 可及的 實刑, 去來處 職員도 加重處罰 對象 이番 改正案은 國家核心技術 流出事犯에 對한 量刑基準을 새로 만들고, 只今까지 營業祕密 侵害行爲로 分類돼 處罰이 弱했던 産業技術 流出 犯罪를 따로 떼어내 最高 刑量을 大幅 높인 게 核心이다. 量刑委는 半導體와 디스플레이 等 13個 分野 75個인 國家核心技術을 海外로 流出한 事犯의 境遇 △減輕(懲役 2∼5年) △基本(3∼7年) △加重(5∼12年) 領域으로 量刑을 勸告했다. 加重 處罰할 條件이 兄을 깎아줄 條件보다 2個 以上 더 많으면 刑量을 最高 1.5倍까지 올릴 수 있다. 罪質에 따라서는 가장 嚴重한 懲役 12年의 1.5倍인 懲役 18年까지 宣告를 勸告할 수 있게 된 것이다. 量刑委는 加重處罰 條件도 大幅 넓혀 現實化했다. 于先 技術 流出 時 加重處罰을 받는 ‘祕密 維持 義務者’의 範圍를 ‘契約關係 等에 따라 祕密을 維持할 義務가 있거나 그에 準하는 境遇’로 폭넓게 定義했다. 現在는 ‘對象機關 任職員’ 等으로 定義돼 있는데, 實際로는 去來處 職員이나 派遣職 等을 통해서도 技術이 流出된다는 産業系 意見을 反映했다. 反面 流出犯이 執行猶豫로 빠져나갈 구멍은 좁힌다. 初犯이라는 事實은 앞으로 執行猶豫를 내릴 主要 思惟에서 除外한다. 技術 流出汎 大多數는 戰果 없이 살다가 ‘한탕’을 노리고 技術을 빼돌리는데, 摘發돼도 初犯이라며 實刑을 면하는 게 不合理하다는 指摘을 따랐다. 다만 法定 刑量이 ‘3年 以上 有期懲役’으로 規定된 國家核心技術 流出事犯을 量刑基準上 最高 刑量(18年)까지만 處罰할 수 있는 건 아니다. 判事의 裁量에 따라 이보다 强한 處罰을 내릴 수도 있다. 量刑委 關係者는 “量刑基準은 70∼80%假量의 一般的 事件에 對한 勸告案”이라며 “原則上 國家核心技術 海外 有出帆에겐 有期懲役 最高値인 懲役 30年刑까지 내릴 수 있다”고 말했다. 그동안 營業祕密 海外 流出과 同一하게 取扱돼 最大 9年刑에 그쳤던 産業技術 海外 流出도 量刑基準이 別途로 생기면서 最大 勸告刑量이 15年刑까지 높아졌다. ● 産業界 “核心技術이 安保와 直結, 共感帶 反映” 國家와 企業의 核心 競爭力인 技術이 高額 年俸을 받고 移職하는 前職 職員 等에 依해 中國 等 海外로 새 나가는 犯罪에 對한 處罰 强化 목소리는 以前부터 繼續돼왔다. 韓國醫希望 梁香子 議員室에 따르면 國家情報院이 摘發한 技術流出 摘發 現況은 2019年 14件, 2020年 17件, 2021年 22件, 2022年 20件, 지난해 23件으로 增加勢다. 最近 5年間 流出된 技術은 半導體가 38件(39.6%)으로 가장 많았고 디스플레이(16件·16.7%), 自動車(9件·9.3%), 배터리(7件·7.2%) 等이 뒤를 이었다. 2016∼2018年 1件이었던 半導體 技術 海外 流出은 지난해 13件까지 늘었다. 이에 2019年 8月 國家核心技術을 海外로 빼돌리면 3年 以上의 有期懲役에 處하도록 處罰을 强化하는 産業技術保護法이 改正됐지만 정작 關聯 量刑基準은 4年餘 동안 마련되지 않았다. 産業技術 流出 犯罪를 맡았던 한 搜査官은 “國家核心技術을 流出하고도 執行猶豫에 그치는 事例가 적지 않았다”고 했다. 最近 技術 流出이 잦았던 半導體業界를 包含한 産業界에서는 歡迎하는 雰圍氣다. 한 電子業界 關係者는 “企業들이 技術 流出을 막기 위해 안간힘을 쓰고 있는 狀況에서 制度的인 裝置가 하나 더해졌다”고 評價했다.조동주 記者 djc@donga.com홍석호 記者 will@donga.com}
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