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韓 半導體業界 “美 規制 無作定 同參은 困難”|東亞日報

韓 半導體業界 “美 規制 無作定 同參은 困難”

  • 東亞日報
  • 入力 2024年 4月 9日 03時 00分


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[美 半導體 規制 避해보는 韓國]
美 ‘자국과 同一水準’ 協助 要求에
“外交도 重要하지만 實益 따져야”

美國 政府가 主要 半導體 裝備 製造國에 對中 半導體 規制 水位를 높일 것을 要請하면서 韓國 政府의 苦心이 깊어지고 있다. 現在 韓國 政府는 日本과 네덜란드가 加勢한 裝備 輸出 規制에 同參하는 方案을 檢討 中이다. 하지만 國內 半導體 業界에선 “名分보다는 實益을 따져 深思熟考해야 한다”는 憂慮의 목소리가 나온다.

8日 半導體 業界에 따르면 美國 政府는 韓國에 자국과 同一한 水準으로 半導體 裝備 輸出에 同參하라고 要求하고 있다. 現在 美國의 規制 對象은 △14nm(나노미터·1nm는 10億分의 1m) 以下 시스템 半導體 △18나노 以下 D램 △128段 以上 낸드플래시에 對한 技術 및 裝備다. 日本과 네덜란드는 지난해 下半期(7∼12月) 規制에 同參한다고 밝혔다.

韓美 當局도 半導體 裝備 輸出 規制 同參 問題를 論議하고 있다. 지난달 美國을 찾은 정인교 産業通商資源部 通商交涉本部長은 “앞으로 統制 水準이 어느 程度로 바뀔 것인지는 緊密하게 協議해 決定해야 하지 않나 싶다”라고 말했다.

美國이 同盟國에 바라는 規制 水位는 漸漸 剛해지고 있다. 尖端 裝備가 아니더라도 尖端 半導體 製造 目的에 쓰일 수 있는 裝備와 關聯 서비스를 모두 輸出하지 말라는 要求다. 로이터通信의 7日(現地 時間) 報道에 따르면 네덜란드 政府는 中國 業體의 ASML 極紫外線(EUV) 露光裝備와 審紫外線(DUV) 裝備 維持 補修 要求에 對해 積極的으로 應하지 않는 方式으로 强化된 規制에 參與하기로 했다.

國內 半導體 裝備 業界에서는 無酌定 規制에 同參하기보다는 實益을 따진 悠然한 對處가 必要하다는 呼訴가 나온다. 業界 關係者는 “韓國 裝備 需要가 줄고 있는 狀況에서 中國 市場 進出까지 어려워지면 韓國 企業들만 큰 損害를 볼까 憂慮된다”며 “外交도 重要하지만 産業을 어떻게 育成할지도 考慮해야 한다. 이대로 가면 國內 産業만 考査할 수 있다”고 말했다.


홍석호 記者 will@donga.com
#半導體 戰爭 #對中 半導體 規制 #韓國 半導體
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