李在鎔, 獨서 ASML-者이스 CEO 함께 만나 ‘半導體三角同盟’

東亞日報
入力 2024年 4月 29日 03時 00分

변종국 記者

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半導體超微細工程協力强化
裝備改善-公正最適化意氣投合
李, AI 半導體市場先占廣幅行步
佛-伊等訪問해 유럽市場點檢

이재용, 글로벌 광학기업 방문 26일(현지 시간) 이재용 삼성전자 회장(가운데)이 독일 오버코헨에 있는 글로벌 광학 기업 자이스 본사를 방문해 카를 람프레히트
자이스그룹 최고경영자(CEO·왼쪽에서 세 번째), 크리스토프 푸케 ASML CEO(오른쪽) 등과 만나 반도체 장비 협력을
논의했다. 삼성전자 제공 — **李在鎔, 글로벌 光學企業訪問** 26日(現地時間) 李在鎔三星電子會長(가운데)李獨逸 오버코헨에 있는 글로벌 光學企業者이스 本社를 訪問해 카를 람프레히트 者이스그룹 最高經營者(CEO·왼쪽에서 세 番째), 크리스토프 푸케 ASML CEO(오른쪽) 等과 만나 半導體裝備協力을 論議했다. 三星電子提供

李在鎔三星電子會長이 獨逸에서 半導體業界 ‘슈퍼 을’로 불리는 네덜란드 ASML의 크리스토프 푸케 最高經營者(CEO)와 ASML의 核心 파트너社人獨逸者이스의 카를 람프레히트 CEO를 한자리에서 만나 ‘半導體三角同盟’을 鞏固히 했다. 半導體超微細工程에서 主導權을 確保하기 위한 核心인 極紫外線(EUV) 露光裝備에 對한 協力을 强化하려는 次元이다.

28日 삼성전자에 따르면 이 會長은 26日(現地時間) 獨逸 오버코헨 者이스 本社에서 람프레히트 CEO를 만났다. 이 자리에는 25日(現地時間) ASML의 新任代表로 就任한 푸케 CEO도 함께했다. 푸케 CEO는 最高運營責任者(COO)로 在職하던 지난해 末 ASML 本社를 찾은 이 會長과 尹錫悅大統領, 최태원 SK그룹 會長等을 만나기도 했다.

者이스는 尖端半導體生産에 必須的인 EUV 技術關聯核心特許를 2000個以上 가진 글로벌 光學企業이다. EUV 裝備 1代에 들어가는 者이스 部品만 3萬個以上이다. 자이스가 없으면 ASML 裝備生産도 不可能해 ASML의 ‘슈퍼 을’이다. ASML은 7nm(나노미터·1nm는 10億分의 1m) 以下微細半導體工程에 必須的인 EUV 露光裝備를 生産하는 世界唯一企業이다. 三星電子와 者이스 間直接去來關係는 없지만 ASML이 삼성전자에 보낼 裝備를 만들기 爲해선 初期부터 세 業體의 協業이 必要하다. 이에 삼성전자-ASML-者이스로 이어지는 三角共助는 무엇보다 重要하다.

삼성전자는 이番 만남에서 者이스, ASML과 △裝備性能改善 △生産工程最適化 △收率向上等의 協力을 하기로 했다. 三星電子는 EUV 技術力을 바탕으로 파운드리 市場에서는 3나노 以下超微細工程을 主導하고, D램 分野에서는 年內에 EUV 工程을 適用해 6世代 10나노級 D램을 量産하겠다는 計劃이다.

三星은 最近 파운드리(半導體委託生産) 分野에서 超微細工程을 두고 熾烈한 競爭을 벌이고 있다. 三星電子와 TSMC는 各各來年 2나노, 2027年 1.4나노 工程을 導入할 計劃이다. 이 渦中에 最近 TSMC는 2026年下半期(7∼12月) 中間段階인 1.6나노 工程을 始作하겠다고 發表했다. 인텔은 年末부터 1.8나노 工程을 量産한다고 밝혔다. ASML의 次世代露光裝備인 ‘하이 NA EUV’도 業界最初로 設置했다.

이런 狀況에서 이 會長은 人工知能(AI) 半導體市場을 先占하기 위해 廣幅行步를 보이고 있다. 지난해엔 젠슨 黃 엔비디아 CEO와 페터르 베닝크 當時 ASML CEO를 만났고, 올해 2月엔 마크 저커버그 메타 CEO를 만났다.

業界關係者는 “李會長은 2019年 ‘시스템 半導體 비전 2030’을 宣布하며 메모리 半導體에 이어 시스템 半導體에서도 確實히 1等을 하겠다고 公言했다”며 “李會長이 直接裝備業體들을 찾아 協力을 끌어낸 것도 超微細工程 싸움에서 主導權을 잡겠다는 意志”라고 分析했다.

李會長은 獨逸外에도 프랑스, 이탈리아 等을 訪問해 비즈니스 미팅 및 유럽 市場點檢, 駐在員懇談會等의 日程을 消化할 豫定이다.

변종국 記者 bjk@donga.com

#三星電子 #李在鎔 #半導體三角同盟