配置設計權
(Integrated circuit layout design protection)은
集積 回路
設計圖에 對한
知識 財産權
이다. 大韓民國에서는 10年間 保護한다.
마스크 幾何學的 構造의 機能的 特性으로 인해 디자인은 著作權法에 따라 效果的으로 保護될 수 없다(장식 藝術人 境遇 除外). 마찬가지로 個別 리소그래피 마스크 作品은 明確하게 保護 對象이 아니기 때문에, 또한 作業에 具現된 모든 프로세스가 特許를 받을 수 있더라도 特許法에 따라 效果的으로 保護될 수 없다. 따라서 1990年代부터 國家 政府는 特定 레이아웃의 複製에 對해 時間 制限이 있는 獨占權을 附與하는 著作權과 類似한 獨占權을 附與해 왔다. 集積回路 權利의 條件은 一般的으로 寫眞에 適用되는 著作權보다 짧다.
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