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세메스는 固有의 讀者開發裝備와 製品競爭力을 바탕으로
海外市場에서의 事業領域을 擴張해 나가며, 果敢한 設備投資와
끊임없는 技術革新을 通해 글로벌 裝備 메이커로 跳躍하고 있습니다.

사람과 技術이 함께하는 세메스

企業情報

持續可能한 未來를 꿈꿉니다

持續可能經營

인재와 함께 成長하는 企業

人材採用

See the Technology

半導體部門은 全工程核心裝備인 稅政, 포토트랙, 에치 裝備를 비롯해
後工程裝備等을 生産하고 있습니다.

Semiconductor
Equipment

Display
Equipment

Line
Automation

바로 只今 이 時間에도
세메스는 끊임없는
技術革新으로 未來를
準備하고 있습니다

CLEAN

公正紹介

稅政(Clean) 工程은 웨이퍼 表面에 있는 不純物을 化學物質處理, 가스, 物理的方法等을 통해 除去하는 工程입니다. 外部環境流入 및 半導體製造工程時發生할 수 있는 粒子(Particle), 金屬(Metal), 有機物, 自然酸化幕等微量의 不純物度 패턴 缺陷, 電氣的特性低下等半導體製品의 輸率과 信賴性에 否定的影響을 줄 수 있기 때문에 웨이퍼를 깨끗하게 淸掃하는 稅政工程은 半導體工程에서 매우 重要한 段階입니다.

PHOTO

公正紹介

포토(Photo) 工程은 포토 리소그래피(Photo lithography) 公正의 줄임말로 回路 패턴이 담긴 마스크 賞과 빛을 利用해 웨이퍼 表面에 回路 패턴을 그려넣는 工程으로 포토 工程에 依해 微細回路의 패턴이 具現되기 때문에 細心하고 높은 水準의 技術을 要求합니다.